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J-GLOBAL ID:200903062446867955

オゾン滅菌方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山田 恒光 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001171023
Publication number (International publication number):2002360674
Application date: Jun. 06, 2001
Publication date: Dec. 17, 2002
Summary:
【要約】【課題】 滅菌に必要な相対湿度を維持して滅菌効果の低下を防止し得、被滅菌物の滅菌を充分に行い得るオゾン滅菌方法及び装置を提供する。【解決手段】 処理容器3内に被滅菌物2を入れ、該処理容器3内を加熱装置4によって滅菌処理温度範囲より高い温度に加熱し且つ加湿装置5によって加湿した後、処理容器3内の温度を下げて行き、該処理容器3内の温度を滅菌処理温度範囲の上限から下限まで低下させつつオゾン供給装置6からオゾンを供給し、被滅菌物2の滅菌処理を行うよう構成する。
Claim (excerpt):
処理容器内に被滅菌物を入れ、該処理容器内を滅菌処理温度範囲より高い温度に加熱し且つ加湿した後、処理容器内の温度を下げて行き、該処理容器内の温度を滅菌処理温度範囲の上限から下限まで低下させつつオゾンを供給し、被滅菌物の滅菌処理を行うことを特徴とするオゾン滅菌方法。
IPC (3):
A61L 2/20 ,  A61L 2/24 ,  C01B 13/10
FI (4):
A61L 2/20 J ,  A61L 2/20 A ,  A61L 2/24 ,  C01B 13/10 D
F-Term (15):
4C058AA12 ,  4C058AA15 ,  4C058AA16 ,  4C058BB07 ,  4C058CC02 ,  4C058DD01 ,  4C058DD02 ,  4C058DD03 ,  4C058DD04 ,  4C058DD11 ,  4C058DD13 ,  4C058JJ14 ,  4C058JJ28 ,  4G042CA01 ,  4G042CE04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭57-174086

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