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J-GLOBAL ID：200903062511440646

超純水製造供給装置の洗浄方法

Inventor： 菅原 広 ,  川田 和彦
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 三浦 進二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003059904
Publication number (International publication number)：2004267864
Application date： Mar. 06, 2003
Publication date： Sep. 30, 2004
Summary：

【課題】超純水製造供給装置の薬液洗浄後の純水リンスの確認工程作業を容易にすることができ、洗浄を短時間で効率的に行うことができる方法を提供する。【解決手段】一次純水を処理して超純水を製造し使用場所へ供給する超純水製造供給装置の接液部の少なくとも一部を、過酸化水素水溶液で洗浄した後に、更に塩基性水溶液で洗浄する。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

一次純水を処理して超純水を製造し使用場所へ供給する超純水製造供給装置の接液部の少なくとも一部を、薬液を用いて2回以上洗浄を行う場合において、該薬液洗浄の最終回の工程で使用する薬液の主たる成分が、イオン性導電性物質であることを特徴とする超純水製造供給装置の洗浄方法。

IPC (3)：

B08B3/04 ,  B01D12/00 ,  B08B3/08

FI (3)：

B08B3/04 Z ,  B01D12/00 ,  B08B3/08 Z

F-Term (9)：

3B201AA47 ,  3B201AB51 ,  3B201BB05 ,  3B201BB87 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201BB96 ,  3B201CC21 ,  4D056EA01