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J-GLOBAL ID:200903062516776898
光記録保護膜用スパッタリングターゲット
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998166901
Publication number (International publication number):1999350119
Application date: Jun. 15, 1998
Publication date: Dec. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】 スパッタリング中に異常放電が生じにくくパーティクルの発生が少ない光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 硫化亜鉛からなる緻密なマトリックス中に、粒径が30μm以下の二酸化ケイ素の粒子が均一に分散した焼結体組織を有する焼結体によりスパッタリングターゲットを構成する。
Claim (excerpt):
硫化亜鉛および二酸化ケイ素を主成分とする焼結体からなる光記録保護膜用スパッタリングターゲットにおいて、前記焼結体中の二酸化ケイ素の粒径が30μm以下であることを特徴とする光記録保護膜用スパッタリングターゲット。
Patent cited by the Patent: