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J-GLOBAL ID：200903062523484320

熱処理用雰囲気の発生法及び装置

Inventor： ジャーク・ステファーン・バン・ダン・シペ ,  アラン・ラセル・バーロウ
Applicant, Patent owner： プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド
Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995160195
Publication number (International publication number)：1996169701
Application date： Jun. 05, 1995
Publication date： Jul. 02, 1996
Summary：

【要約】【目的】 鉄金属、非鉄金属、合金、並びに金属及び/又はセラミック粉末の熱処理用一酸化炭素及び水素雰囲気の吸熱発生用反応器装置を提供する。【構成】 非補助熱源と、前記熱源からの熱のすぐ隣に配置された触媒のための多孔質セラミック担体手段と、前記担体手段上に配置された貴金属を含有する触媒手段と、炭化水素ガスと5〜100%の酸素を含有する酸化剤ガス混合物とを含む流入ガス源であって、前記非補助熱源にさらそうとする炭化水素ガス及び酸素を含む流入ガス源と、前記炭化水素ガス及び酸素を担体及び触媒手段に向けるための手段であり、ここで該炭化水素ガスが酸化して一酸化炭素及び水素を含む流出ガスを少なくとも10,000標準ft3 /流出ガスHr/使用触媒ft3 の空間速度で生成するところの手段とから構成する。

Claim (excerpt)：

鉄金属、非鉄金属、合金、並びに金属及び/又はセラミック粉末の熱処理用一酸化炭素及び水素雰囲気の吸熱発生用反応器装置であって、非補助熱源、前記熱源からの熱のすぐ隣に配置された触媒のための多孔質セラミック担体手段、前記担体手段上に配置された貴金属を含有する触媒手段、炭化水素ガスと5〜100%の酸素を含有する酸化剤ガス混合物とを含む流入ガス源であって、前記非補助熱源にさらそうとする炭化水素ガス及び酸素を含む流入ガス源、及び前記炭化水素ガス及び酸素を担体及び触媒手段に向けるための手段であり、ここで該炭化水素ガスが酸化して一酸化炭素及び水素を含む流出ガスを少なくとも10,000標準ft3 /流出ガスHr/使用触媒ft3 の空間速度で生成するところの手段、を含む一酸化炭素及び水素雰囲気の吸熱発生用反応器装置。

IPC (6)：

C01B 3/40 ,  B01J 7/00 ,  B01J 23/38 ,  B01J 23/40 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/46 311

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 熱処理用雰囲気の製造方法及び熱処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-277720   Applicant：ル・エール・リクイツド・ソシエテ・アノニム・プール・ル・エチユド・エ・ル・エクスプルワテシヨン・デ・プロセデ・ジエオルジエ・クロード