Pat
J-GLOBAL ID:200903062560230029
ポジ型感放射線性樹脂組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
和気 操
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006027413
Publication number (International publication number):2007206551
Application date: Feb. 03, 2006
Publication date: Aug. 16, 2007
Summary:
【課題】EB、X線、EUV用として、ラインラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができる。【解決手段】アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂(A)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含む組成物をアルコール化合物を含む溶媒に溶解してなり、酸解離性基含有樹脂(A)が、繰り返し単位(i)および繰り返し単位(ii)を含み、アルコール化合物が沸点190°C以上の炭素数3〜20の1〜4価飽和アルコール化合物であり、繰り返し単位(i)はビニルフェノール(ヒドロキシスチレン)単位で表され、繰り返し単位(ii)は、酸解離性基を含む繰り返し単位である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂(A)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含む組成物をアルコール化合物を含む溶媒に溶解してなるポジ型感放射線性樹脂組成物であって、
前記酸解離性基含有樹脂(A)が、以下に示す繰り返し単位(i)および繰り返し単位(ii)を含み、前記アルコール化合物が常圧760mmHgにおける沸点190°C以上の炭素数3〜20の1〜4価飽和アルコール化合物であることを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
繰り返し単位(i);下記式(1)で表される繰り返し単位
IPC (4):
G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
, C08F 212/14
FI (4):
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
, C08F212/14
F-Term (41):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CC03
, 2H025CC20
, 4J100AB02R
, 4J100AB03R
, 4J100AB04R
, 4J100AB07P
, 4J100AB07Q
, 4J100AB07R
, 4J100AL03Q
, 4J100AL08Q
, 4J100AL62Q
, 4J100BA03P
, 4J100BA04Q
, 4J100BA05Q
, 4J100BA05R
, 4J100BA06Q
, 4J100BA14Q
, 4J100BA41Q
, 4J100BA53Q
, 4J100BB03Q
, 4J100BC02Q
, 4J100BC03Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC43Q
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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ポジ型感放射線性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-235290
Applicant:東レ株式会社
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末端に非共有電子対を有する官能基を導入した高分子化合物、その製造方法及び該高分子化合物を使用したポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-186872
Applicant:科学技術振興事業団
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微細パターン形成材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-246324
Applicant:和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
-
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-275334
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型電子線又はX線レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-252141
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-267329
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-296777
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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特許第3546913号公報
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ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-067342
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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Cited by examiner (4)
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化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-185812
Applicant:信越化学工業株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-192072
Applicant:シップレーカンパニーエルエルシー
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ポジ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-028623
Applicant:三菱化学株式会社
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