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J-GLOBAL ID：200903062623719732

圧力センサの製造方法

Inventor： 西本 尚弘
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 西岡 義明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998183680
Publication number (International publication number)：2000019040
Application date： Jun. 30, 1998
Publication date： Jan. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 シリコンチップとガラス台座の接合時に残留応力を発生させない圧力センサの製造方法を提供する。【解決手段】 シリコン部材1をエッチングなどにより薄くしたダイヤフラム7(受圧部)上に拡散やイオン打ち込みで形成したピエゾ抵抗素子3を設け、保護膜4に導通孔としてコンタクトホール5を介して電極6を設け、そのシリコン部材1を台座のガラス部材2に重ねあわせ、接合界面に希フッ酸(HF:水=50:1)を滴下する。すると、毛管現象により滴下された希フッ酸は界面に沿って拡散するが、この後所定時間上方から荷重を加えながら両者を接合する。このように常温で接合するので残留応力は発生しない。

Claim (excerpt)：

シリコンチップとガラス台座を接合してなる圧力センサの製造方法において、接合面に酸化膜を形成したシリコンチップとガラス台座の両部材を溶解させるための溶液を接合面に介在させ固着することを特徴とする圧力センサの製造方法。

IPC (2)：

G01L 9/04 101 ,  H01L 29/84

FI (3)：

G01L 9/04 101 ,  H01L 29/84 B ,  H01L 29/84 Z

F-Term (18)：

2F055AA40 ,  2F055BB20 ,  2F055CC02 ,  2F055DD05 ,  2F055DD07 ,  2F055EE14 ,  2F055FF43 ,  2F055GG01 ,  2F055GG14 ,  4M112AA01 ,  4M112BA01 ,  4M112CA02 ,  4M112CA15 ,  4M112DA18 ,  4M112EA02 ,  4M112EA13 ,  4M112EA17 ,  4M112FA09