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J-GLOBAL ID:200903062652738991

光導波路および光集積回路ならびにそれらの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992028295
Publication number (International publication number):1993224042
Application date: Feb. 14, 1992
Publication date: Sep. 03, 1993
Summary:
【要約】【目的】 光損失を生じることなく光導波路を交差させられる光導波路構造、および光の入射・出射ポートを同一面内に配置できる光集積回路、ならびにそれらの製造方法を提供することを目的とする。【構成】 石英基板1上に第1のコア層2を形成する。この第1のコア層2の導波路交差領域を除去する。除去領域に露出した石英基板1上に第1のコア層2に交差する第2のコア層3を形成する。第1のコア層2の除去端面を露出しつつ第2のコア層3を埋め込むクラッド層4aを除去領域に形成し、石英基板1の一部を所定の高さだけ鉛直方向に持ち上がらせる。第1のコア層2の除去端面を結合する導波路結合層2aを湾曲クラッド層4a上に形成する。第1のコア層2および第2のコア層3上に第2のクラッド層8を形成する。
Claim (excerpt):
鉛直方向に所定の高さだけ持ち上がった領域を有する第1のクラッド層と、この第1のクラッド層上に形成された鉛直方向に持ち上がった領域を有する第1のコア層と、前記第1のクラッド層の鉛直方向に持ち上がった領域を前記第1のコア層から所定の距離だけ離れて貫通する第2のコア層と、前記第1のコア層およびこれに交差する第2のコア層上に形成された第2のクラッド層とを備えて形成された光導波路。

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