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J-GLOBAL ID:200903062656168367
基板処理装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
稲岡 耕作 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997142341
Publication number (International publication number):1998335285
Application date: May. 30, 1997
Publication date: Dec. 18, 1998
Summary:
【要約】【解決手段】天板15の下方には駆動室18が区画されており、駆動室18の内部には、シャッタ14を開閉駆動するためのロッドレスシリンダ19が配置されている。ロッドレスシリンダ19の駆動力は、駆動伝達軸27によってシャッタ14に伝達される。駆動伝達軸27は、上下方向に延びて設けられており、天板15に形成された開口部28に挿通されている。この開口部28に関連して、駆動伝達軸27と天板15との間隙をシールするシール部材38が設けられている。また、駆動室18内には、天板15に隣接して内部室42が形成されており、この内部室42には、気体供給手段としての不活性ガス供給源から不活性ガスが供給されるようになっている。【効果】空間11内の雰囲気が駆動室18に侵入するのを防ぐことができるので、ロッドレスシリンダ19や駆動伝達軸27が薬液成分を含む雰囲気によって腐食されたり、劣化したりすることがない。
Claim (excerpt):
基板に対して処理流体を供給して処理を施すための処理室と、基板に対して処理を施すために動作する可動部材を駆動する駆動源と、この駆動源を取り囲むように設けられ、上記処理室と上記駆動源とを隔離する隔壁によって形成された駆動室と、この駆動室の隔壁に形成された開口部と、この開口部を挿通し、上記駆動源の駆動力を上記可動部材に伝達する駆動伝達軸と、上記開口部に設けられて、上記駆動伝達軸と上記駆動室の隔壁との間隙をシールするシール部材とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3):
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, H01L 21/68
FI (3):
H01L 21/304 341 C
, H01L 21/304 341 Z
, H01L 21/68 A
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