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J-GLOBAL ID：200903062707196360

センサーの周囲の溶液環境を迅速に変化させるシステム及び方法

Inventor： オルヴァル,オーヴェ ,  チュー,ダニエル ,  ピール,ヨハン ,  シンクレア,ジョン ,  オロフスン,イェシカ ,  カールスン,マティアス ,  ヤルデマルク,ケント
Applicant, Patent owner： セレクトリコン アーベー
Agent (1)： 浜田 治雄
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003568021
Publication number (International publication number)：2005517399
Application date： Jan. 14, 2003
Publication date： Jun. 16, 2005
Summary：

本発明はセンサーのようなナノスケール又はミクロスケールの対象物の周囲の溶液環境を変化させるマイクロ流体システム及びそれを使用する方法を提供する。本発明は、検出素子がその特徴が知られているであろう或いは知られていないであろう多数の異なる溶液環境へ、迅速、連続的且つ制御可能に露呈させる必要がある如何なるセンサー技術にも供給されることが可能である。

Claim (excerpt)：

センサーの周囲の溶液環境を変化させる基板であって、該基板が複数のチャネルからなり、チャネルの各々が出口からなる基板と センサーを出口からの流体流へ選択的に露呈させる走査メカニズムからなるシステム。

IPC (8)：

C12M1/34 ,  C12M1/42 ,  C12N5/06 ,  C12Q1/02 ,  G01N21/27 ,  G01N27/416 ,  G01N33/543 ,  G01N37/00

FI (8)：

C12M1/34 A ,  C12M1/42 ,  C12Q1/02 ,  G01N21/27 C ,  G01N33/543 595 ,  G01N37/00 101 ,  C12N5/00 E ,  G01N27/46 336M

F-Term (27)：

2G059AA05 ,  2G059BB04 ,  2G059BB14 ,  2G059CC16 ,  2G059DD01 ,  2G059DD12 ,  2G059EE02 ,  4B029AA07 ,  4B029AA24 ,  4B029BB11 ,  4B029CC08 ,  4B029FA15 ,  4B063QA05 ,  4B063QQ21 ,  4B063QQ41 ,  4B063QQ61 ,  4B063QQ89 ,  4B063QR77 ,  4B063QS31 ,  4B063QS36 ,  4B063QS39 ,  4B063QX04 ,  4B065AA90X ,  4B065AC20 ,  4B065BA30 ,  4B065BC50 ,  4B065CA46

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 微小スケール流体装置の高処理能力スクリーニングアッセイシステム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-504237   Applicant：カリパーテクノロジーズコーポレイション

Cited by examiner (1)

• 微小スケール流体装置の高処理能力スクリーニングアッセイシステム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-504237   Applicant：カリパーテクノロジーズコーポレイション