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J-GLOBAL ID：200903062746459050

変性コロイダルシリカ

Inventor： 高畑 忠雄 ,  大塚 孝洋 ,  茂田 康之 ,  武捨 清
Applicant, Patent owner： 旭電化工業株式会社
Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996216404
Publication number (International publication number)：1998059708
Application date： Aug. 16, 1996
Publication date： Mar. 03, 1998
Summary：

【要約】【課題】 本発明の目的は、広範なpH領域においてカチオン性物質と共存しても安定な変性コロイダルシリカを提供することにある。【解決手段】 本発明の変性コロイダルシリカは、水性コロイダルシリカを、下記一般式(1)で表される化合物で変性したことを特徴とする変性コロイダルシリカ:【化1】(式中、Rは、炭素原子数1〜6のアルキル基であり、R'は、炭素原子数1〜4の炭化水素基、アミノ基で置換されている炭素原子数1〜4の炭化水素基、若しくはアミノ基で置換されていてもよい炭素原子数1〜4の炭化水素基が単数又は複数の窒素原子で連結された基であり、R"は、炭素原子数1〜3のアルキル基であり、kは、0〜2の数であり、mは、1または2であり、nは、1〜3の数であって、且つk+m+n=4となる数である)

Claim (excerpt)：

水性コロイダルシリカを、下記一般式(1)で表される化合物で変性したことを特徴とする変性コロイダルシリカ:【化1】(式中、Rは、炭素原子数1〜6のアルキル基であり、R'は、炭素原子数1〜4の炭化水素基、アミノ基で置換されている炭素原子数1〜4の炭化水素基、若しくはアミノ基で置換されていてもよい炭素原子数1〜4の炭化水素基が単数又は複数の窒素原子で連結された基であり、R"は、炭素原子数1〜3のアルキル基であり、kは、0〜2の数であり、mは、1または2であり、nは、1〜3の数であって、且つk+m+n=4となる数である)

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 記録媒体、これを用いたインクジェット記録方法及び画像形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-053387   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開昭63-182204
  
• 特開平2-172812
  
• 特開昭58-185405
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Surface Modification of Colloidal Silica