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J-GLOBAL ID:200903062755604551

ポリエチレンから成る安定成形材料、及びその製造方法及びその用途

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 江崎 光史 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994026787
Publication number (International publication number):1994299011
Application date: Feb. 24, 1994
Publication date: Oct. 25, 1994
Summary:
【要約】【構成】 酸化防止剤及びトコフェロール、特にα- トコフェロールまたはの誘導体を含み、105 〜107g/molの平均分子量を有するポリエチレンから成る安定成形材料、及びその製造方法及び使用方法。【効果】 酸化作用を受けにくいポリエチレン安定成形材料が得られる。
Claim (excerpt):
酸化防止剤及びトコフェロール、特にα- トコフェロールまたはその誘導体を含み、105 〜107g/molの平均分子量を有するポリエチレンから成る安定成形材料。
IPC (6):
C08L 23/06 KET ,  C08J 3/22 CES ,  C08K 5/10 KEQ ,  C08K 5/15 ,  C08K 5/36 KFD ,  C08K 5/39 KFF
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 特開昭54-034352
  • 特開昭58-096638
  • 特開昭62-156151
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