反射防止層を有する光学材料及びその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993196533
Publication number (International publication number)：1995048527
Application date： Aug. 06, 1993
Publication date： Feb. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】光学材料用基体の耐衝撃性などの特性が損なわれることなく、かつ反射防止層の密着性が十分であり、画像の解像度が低下することがない反射防止層を有する光学材料を容易に、生産性良く、低コストで得ることができる反射防止層を有する光学材料の製造方法を提供。【構成】屈折率が1.46以上の光を透過する光学材料用基体の表面に平均粒径0.3〜100nmの多孔質シリカよりなる無機微粉末とバインダーとを含有する反射防止層形成用塗布液を塗布し、前記無機微粉末がバインダー中に分散したものからなり、前記光学材料用基体よりも0.02以上低い屈折率を有し、かつ厚さが50〜5000nmの反射防止層を形成する。

Claim (excerpt)：

屈折率が1.46以上の光を透過する光学材料用基体と、この光学材料用基体の表面を覆う反射防止層とからなる光学材料であって、前記反射防止層は平均粒径0.3〜100nmの多孔質シリカよりなる無機微粉末がバインダー中に分散したものからなり、前記光学材料用基体よりも0.02以上低い屈折率を有し、かつ厚さが50〜5000nmであることを特徴とする反射防止層を有する光学材料。

IPC (4)：

C09D 5/00 PPQ , B05D 5/06 , C09D 7/12 PSK , G02B 1/11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭60-203679
特開昭61-293232
プラスチツク用コーテイング組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-066891 Applicant：川崎製鉄株式会社

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