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J-GLOBAL ID：200903062769149750

区画された組織培養フラスコ

Inventor： ウィルソン ジョン ,  ウルフ,マーティン エル.
Applicant, Patent owner： ウィルソン ジョン ,  ウルフ,マーティン エル.
Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996503441
Publication number (International publication number)：1998504710
Application date： Jun. 27, 1995
Publication date： May. 12, 1998
Summary：

【要約】下部のガス透過性フィルム(120)と、選定したサイズの化合物を選択的に透過し得る上部シート(20)とによって画定される細胞培養区画室(40)を有する容器を含む細胞培養装置(10)。その装置(10)は、培養培地(50)を上部シート(20)と下部ガス透過性フィルム(120)との間に存在させるように適応させる。基底培地区画室(30)を上部シート(20)よりも上に配置しかつ基底培地(60)を上部シート(20)上に存在させるように適応させる。各々の区画室(30、40)はアクセス口(70、90)を収容する。ガス透過性フィルム(120)の下にかつ該フィルムと一部接触するガスフィルム支持体(130)は、ガス透過性フィルム(120)を、懸濁又は粘着細胞がガス透過性フィルム(120)の水平部分を横断して分布することができるように実質的に水平な位置に保つ。

Claim (excerpt)：

a)下部ガス透過性フィルム120と、潅流させる(perfuse)させるべき培養の化合物を選択的に透過し得る上部シート20とによって画定されかつ培養培地を該上部シート20と下部ガス透過性フィルム120との間に存在させるように適応された細胞培養区画室40; b)基本培地区画室30であって、それの一部は該上部シート20よりも上にあるものであり、かつ基本培地60を該上部シート20上に存在させるように適応された基本培地区画室30; c)該細胞培養区画室40へのアクセス口70; d)該基本培地区画室30へのアクセス口90;及び e)ガス透過性フィルム120の主部分は、懸濁細胞が該ガス透過性フィルム120の水平部分を横断して分布することができかつ該細胞培養区画室40に出入りするガス移動が実質的に損なわれないように実質的に水平な位置に保たれるところの、該ガス透過性フィルム120の下にかつ該フィルムと一部接触するガスフィルム支持体130を有する容器を含む自蔵(self-cotanined)非潅流の細胞培養装置。

IPC (3)：

C12M 3/06 ,  C12N 5/02 ,  C12N 5/06

FI (3)：

C12M 3/06 ,  C12N 5/02 ,  C12N 5/00 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-228269
  
• 特開昭60-210982