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J-GLOBAL ID：200903062785346387

新規アゾール化合物、及び該化合物を含有する錫、鉛または錫-鉛合金めつき浴

Inventor： 西川 哲治 ,  小里 圭二 ,  正木 征史
Applicant, Patent owner： 石原薬品株式会社 ,  株式会社大和化成研究所
Agent (1)： 三枝 英二 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991170050
Publication number (International publication number)：1993017894
Application date： Jul. 10, 1991
Publication date： Jan. 26, 1993
Summary：

【要約】【構成】 本発明は一般式【化1】〔式中、R1は、水素、C1-3アルキル、C1-3アルコキシ、ハロゲン原子、C1-3アルキルチオ、-NO2、-CN又は-NR4R5(R4及びR5は、同一又は異なって各々C1-3アルキルを示す)を示し、R2及びR3は一方が水素で他方がメチルを示し、XはO、S又はNHを示し、YはS、O又は【化2】(R2及びR3は上記に同じ、kは0〜30の整数、lは0〜30の整数であってk+l≧1である。)を示す。mは0〜30の整数、nは0〜30の整数であってm+n≧1である。〕で表わされるアゾール化合物、及び該化合物を含有する錫、鉛または錫-鉛合金めっき浴を提供するものである。【効果】 本発明めっき浴によれば、広い電流密度範囲において、光沢が良好で、均一性に優れためっき皮膜を形成できる。

Claim (excerpt)：

一般式【化1】〔式中、R1は、水素、C1-3アルキル、C1-3アルコキシ、ハロゲン原子、C1-3アルキルチオ、-NO2、-CN又は-NR4R5(R4及びR5は、同一又は異なって各々C1-3アルキルを示す)を示し、R2及びR3は一方が水素で他方がメチルを示し、XはO、S又はNHを示し、YはS、O又は【化2】(R2及びR3は上記に同じ、kは0〜30の整数、lは0〜30の整数であってk+l≧1である。)を示す。mは0〜30の整数、nは0〜30の整数であってm+n≧1である。〕で表わされるアゾール化合物。

IPC (8)：

C25D 3/60 ,  C07D235/26 ,  C07D235/28 ,  C07D235/30 ,  C07D263/58 ,  C07D277/68 ,  C25D 3/30 ,  C25D 3/34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平2-223562
  
• 特開平1-234469