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J-GLOBAL ID:200903062794883875

露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 立石 篤司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995152219
Publication number (International publication number):1996321457
Application date: May. 26, 1995
Publication date: Dec. 03, 1996
Summary:
【要約】【目的】 サブミクロンサイズのゴミ等の異物が存在してもその影響を受けることなく、基板の平面度を高精度に確保する。【構成】 ホルダ24が多数の面要素52から成り、各面要素52には吸着孔がそれぞれ形成されている。各面要素52は上下方向に独立して駆動可能に構成されている。このため、ホルダ24上にウエハが保持された状態でホルダ24が設けられたステージが2次元方向に移動すると、AFセンサ等によりウエハの平面度が検出され、この平面度の検出結果に応じて各面要素を上下動させることにより、面要素52に対応する部分毎にウエハの平面度を補正することができる。
Claim (excerpt):
マスクに形成されたパターンを2次元方向に移動可能なステージ上に保持された感光基板に転写する露光装置であって、前記ステージ上に設けられ、前記感光基板の保持部材を構成する多数の面要素と;前記各面要素にそれぞれ設けられ、前記感光基板を吸着する吸着機構と;前記各面要素を独立に前記ステージ移動面にほぼ直交する方向に駆動する多数の駆動機構と;前記保持部材上に保持された感光基板表面の所定の計測点における前記ステージ移動面に直交する方向の位置を光電検出する検出手段と;ショット領域の大きさと前記感光基板上のショット領域の配置情報とから算出される各ショット領域と前記各面要素との相対的な位置関係の情報と、前記検出手段の検出結果とに基づいて前記感光基板表面の凹凸変形を補正するのに必要な面要素の駆動量を逐次算出する演算手段と;前記演算手段により算出された駆動量に応じて対応する前記駆動機構を駆動制御する制御手段とを有する露光装置。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68
FI (6):
H01L 21/30 515 G ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 P ,  H01L 21/30 508 A ,  H01L 21/30 511 ,  H01L 21/30 516 Z

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