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J-GLOBAL ID：200903062835003907

ポジ型感光性組成物

Inventor： 丹 史郎 ,  青合 利明 ,  佐藤 健一郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998273266
Publication number (International publication number)：2000098614
Application date： Sep. 28, 1998
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 深紫外線、特にArFエキシマレーザー光に対して高い感度、解像力を有し、レジストプロファイルが優れるとともに、基板からの剥離が起こらないレジストパターンを形成し得る、標準現像液適性を備えたポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 特定の構造のシクロペンタン環を有する構造単位を有し、且つ酸の作用により分解する重合体、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)下記一般式(I)又は/及び(II)で表される構造単位を有し、且つ酸の作用により分解する重合体、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。一般式(I)【化1】一般式(II)【化2】(式(I)及び(II)中、R1 、R2 は、各々独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、アルカリ可溶性基又は酸の作用により分解する基を示す。)

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (14)：

2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20