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J-GLOBAL ID：200903062864479600

加熱方法および加熱装置

Inventor： 武 達男 ,  宮本 昌広
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 篠部 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999023854
Publication number (International publication number)：2000223257
Application date： Feb. 01, 1999
Publication date： Aug. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】被加熱体の加熱効率を高くするとともに加熱源の構成をより簡素化することができる加熱方法および加熱装置を提供する。【課題を解決するための手段】被加熱体が導電性の円筒10よりなり、磁束発生源が円筒10の内壁に近接して配され通電電流Jを流すことによって円筒10内に磁束を発生させるコイル導体11よりなり、溝15よりなる凹凸部が円筒10の内壁に形成される。

Claim (excerpt)：

導電性の被加熱体の表面に近接して加熱源である磁束発生源が配され、前記磁束発生源から発生する磁束によって前記被加熱体内に誘導される渦電流による抵抗損でもって被加熱体を加熱する方法において、被加熱体の前記表面に凹凸部が形成されることを特徴とする加熱方法。

IPC (5)：

H05B 6/40 ,  G03G 15/20 101 ,  H05B 6/10 371 ,  H05B 6/12 314 ,  H05B 6/14

FI (5)：

H05B 6/40 ,  G03G 15/20 101 ,  H05B 6/10 371 ,  H05B 6/12 314 ,  H05B 6/14

F-Term (33)：

2H033AA21 ,  2H033AA32 ,  2H033BA26 ,  2H033BB12 ,  2H033BE06 ,  3K051AA08 ,  3K051AB05 ,  3K051AC07 ,  3K051AC10 ,  3K051AC16 ,  3K051AD03 ,  3K051AD32 ,  3K051AD35 ,  3K051AD37 ,  3K051CD42 ,  3K051CD43 ,  3K051CD44 ,  3K059AA08 ,  3K059AB00 ,  3K059AB20 ,  3K059AB23 ,  3K059AB28 ,  3K059AC07 ,  3K059AC10 ,  3K059AC16 ,  3K059AD03 ,  3K059AD32 ,  3K059AD35 ,  3K059AD37 ,  3K059CD44 ,  3K059CD52 ,  3K059CD53 ,  3K059CD72