Pat
J-GLOBAL ID：200903062872200046
エッチング装置及びエッチング方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998128367
Publication number (International publication number)：1999330047
Application date： May. 12, 1998
Publication date： Nov. 30, 1999
Summary：
【要約】【課題】 フォーカスリング表面の堆積物がエッチング途中でウエハ上に剥がれ落ち、エッチングの形状精度を得ることができない。【解決手段】 下部電極3のウエハ載置面3aを底面にして、下部電極3の側周にフォーカスリング4を設けてなるエッチング装置において、フォーカスリング4の底面に冷却手段7を設けた。冷却手段7は、フォーカスリング4の底面に沿って密着配置された基材7a内に、フォーカスリング4の底面に沿って冷媒を循環させる冷媒管7bを内設してなるものである。これによって、フォーカスリング4の表面を冷却しながらエッチングを行うことが可能になり、フォーカスリング4表面の加熱によるフォーカスリング4表面からの堆積物aの剥離が防止される。
Claim (excerpt)：
下部電極のウエハ載置面を底面にして、当該下部電極の側周にフォーカスリングを設けてなるエッチング装置において、前記フォーカスリングには、当該フォーカスリングの表面を冷却する冷却手段を設けたことを特徴とするエッチング装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/302 C
, C23F 4/00 A
