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J-GLOBAL ID：200903062898837964

プラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法

Inventor： 藤井 英明
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 土井 育郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998195227
Publication number (International publication number)：1999086723
Application date： Jul. 23, 1991
Publication date： Mar. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 生産性を改善すると共に歩留りを向上させ、かつ良好な線幅精度を得るようにする。【解決手段】 基板1の上に電極パターンを形成するパターン形成材料2を所定の膜厚で塗布し、基板を加熱してパターン形成材料2の上部にドライフィルム3をラミネートした後、該ドライフィルム3をフォトリソグラフィー法によりパターニングして所望パターンに応じたサンドブラスト用マスク6を形成し、そのサンドブラスト用マスク6を介してサンドブラスト7により不要部分を除去することで目的とする電極パターンを形成する。1回の操作により厚膜のパターンが得られる。サンドブラスト用マスク6は、ドライフィルム3をフォトリソグラフィー法により加工して形成するので高精細パターンの対応ができる。

Claim (excerpt)：

プラズマディスプレイの基板上に電極パターンを形成するパターン形成材料を予め所定の膜厚で塗布し、基板を加熱してパターン形成材料の上部にドライフィルムをラミネートした後、該ドライフィルムをフォトリソグラフィー法によりパターニングして所望パターンに応じたサンドブラスト用マスクを形成し、そのサンドブラスト用マスクを介してサンドブラスト処理を行うことにより、目的とする電極パターンを得ることを特徴とするプラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法。

IPC (3)：

H01J 9/02 ,  H01J 11/00 ,  H01J 11/02

FI (3)：

H01J 9/02 F ,  H01J 11/00 A ,  H01J 11/02 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-127429
  
• 特開昭51-142670
  
• 特開平2-301934
  
• 特開平3-086477