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J-GLOBAL ID：200903062914488371

透明導電膜の熱処理方法および透明導電膜

Inventor： 樋口 勝敏 ,  デイデイエ・ロワゾー
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991305973
Publication number (International publication number)：1993144334
Application date： Nov. 21, 1991
Publication date： Jun. 11, 1993
Summary：

【要約】【目的】この発明は、基板に形成された透明導電膜の抵抗率を低くすることができる透明導電膜の熱処理方法および抵抗率の低い透明導電膜を提供することを目的とする。【構成】ガラス基板3に形成された透明導電膜2を、高真空雰囲気もしくは不活性ガス雰囲気の処理チャンバ21内において所定温度で所定時間アニ-リングすることを特徴とする透明導電膜の熱処理方法およびその熱処理方法によって得られた透明導電膜を特徴とする。

Claim (excerpt)：

基板に形成された透明導電膜を、高真空雰囲気のチャンバ内において所定温度で所定時間アニ-リングすることを特徴とする透明導電膜の熱処理方法。

IPC (3)：

H01B 13/00 503 ,  G02F 1/1343 ,  H01B 5/14