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J-GLOBAL ID：200903062914997756

有害ガスの浄化方法

Inventor： 北原 宏一 ,  島田 孝 ,  畠山 俊哉
Applicant, Patent owner： 日本パイオニクス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992308649
Publication number (International publication number)：1994154535
Application date： Nov. 18, 1992
Publication date： Jun. 03, 1994
Summary：

【要約】【目的】 半導体製造工程などから排出されるガス中に含まれるアルシン、ホスフィン、シラン、セレン化水素、ジボランなどの水素化物ガスを含有する有害ガスを浄化し、無害化する。【構成】 有害ガスを、二酸化マンガンおよび酸化銅を主成分とし、カリウムを含有する組成物に銀化合物を添着して得た浄化剤と接触させる。

Claim (excerpt)：

有害成分である水素化物ガスを含むガスを、二酸化マンガンおよび酸化銅を主成分とし、かつ、カリウム成分を含有する組成物に、銀化合物を添着せしめてなる浄化剤と接触させることを特徴とする有害ガスの浄化方法。

IPC (5)：

B01D 53/02 ZAB ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 120 ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01J 20/06 ZAB

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平1-254230