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J-GLOBAL ID：200903062994939131

パターン形成方法及び露光装置

Inventor： 福田 宏
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993303768
Publication number (International publication number)：1995161606
Application date： Dec. 03, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【構成】エキシマレーザ1を発した光を誘導ラマン放射を用いた波長変換装置によりその一部の波長を変化させ複数波長の光とした後、照明光学系6を介してマスク7に照射し、マスク7上のパターンを色収差の小さな反射型レンズを含む投影光学系を介して基板上へ投影露光してパターンを形成する。【効果】高い解像性能を保ちつつレジスト膜内での多重干渉効果と定在波効果を抑制することができる。これにより、段差基板上での良好なレジストパターン線幅制御と優れた断面形状のレジストパターンを得ることが可能となる。

Claim (excerpt)：

エキシマレーザを発した光を照明光学系を介してマスクに照射し、上記マスク上のパターンを基板上へ投影露光することにより、上記基板上にパターンを形成する方法において、上記エキシマレーザを発した光の一部は波長変換装置により複数の波長に変換され、上記複数の波長に対して色収差の小さな反射型レンズを含む投影光学系により上記投影露光がなされることを特徴とするパターン形成方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 515 B ,  H01L 21/30 502 A ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 517