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J-GLOBAL ID：200903063016064090
欠陥検査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993231279
Publication number (International publication number)：1995083844
Application date： Sep. 17, 1993
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：
【要約】【目的】 被検物の本来のパターンの密集度や形状等の条件によらずに欠陥のみを正確に検出する。【構成】 光源105からの照明光を被検基板100に照射し、被検基板100からの反射光のフーリエ変換像をハーフミラー113を介して撮像素子114で撮像し、そのフーリエ変換像の開口112内の光をレンズ115を介して逆フーリエ変換して撮像素子116で撮像する。撮像素子114の撮像信号から開口112内を通過する光束の照度が最も小さくなるときの開口の位置及び大きさを求め、その位置及び大きさに開口112を設定して、撮像素子116で欠陥の像を撮像する。
Claim (excerpt)：
被検物に検査用の光を照射する光照射手段と、前記被検物からの光を集光する集光光学系とを有し、該集光された光により前記被検物の欠陥を検査する装置において、前記被検物からの光をフーリエ変換する第1変換光学系と、前記第1変換光学系による前記被検物のフーリエ変換面上で、前記被検物のフーリエ変換パターンとの相対位置関係が可変で且つ面積が可変の開口を設定する開口設定手段と、前記開口を通過する光束の単位面積当りの光量を求める照度計測手段と、前記開口の面積が検出対象とする最小の欠陥から決定される所定の最小面積以上であるという条件下で、前記開口を通過する光束の単位面積当りの光量が最小になるように、前記開口設定手段を介して前記開口と前記フーリエ変換パターンとの相対位置関係及び前記開口の面積を設定する制御手段と、前記開口を通過した光を逆フーリエ変換して前記被検物の共役像を結像する第2変換光学系と、前記被検物の共役像を観察する観察手段と、を有することを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2)：
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