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J-GLOBAL ID：200903063163086589

表面処理顔料およびその製造方法

Inventor： 井口 司 ,  上村 敏文
Applicant, Patent owner： 東洋インキ製造株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996265717
Publication number (International publication number)：1998110111
Application date： Oct. 07, 1996
Publication date： Apr. 28, 1998
Summary：

【要約】【課題】水や有機溶剤に対する初期分散性、長期分散性に優れ、顔料粒子の凝集を起こしずらい優れた顔料を提供することにあり、また分散性向上のための顔料表面の親水化処理方法を提供する。【解決手段】スルホン化反応溶剤中で、有機顔料の凝集粒子を粉砕機または分散機で微分散させながら、有機顔料の粒子表面にスルホン化剤によりスルホン酸基を導入する表面処理顔料の製造方法。粉砕機または分散機による微分散がせん断応力またはメディアによる衝撃力である表面処理顔料の製造方法。

Claim (excerpt)：

スルホン化反応溶剤中で、有機顔料の凝集粒子を粉砕機または分散機で微分散させながら、有機顔料の粒子表面にスルホン化剤によりスルホン酸基を導入することを特徴とする表面処理顔料の製造方法。

IPC (3)：

C09B 67/20 ,  C09B 67/14 ,  C09B 67/48

FI (3)：

C09B 67/20 Z ,  C09B 67/14 ,  C09B 67/48 Z