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J-GLOBAL ID：200903063169509260

カバーコート装着法及びパターン形成方法

Inventor： 今井 玄児 ,  岩沢 直純 ,  橋本 定明
Applicant, Patent owner： 関西ペイント株式会社
Agent (1)： 小田島 平吉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993288661
Publication number (International publication number)：1995120930
Application date： Oct. 25, 1993
Publication date： May. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】 感光性レジストに、高解像度で酸素による感光性の低下がなく、微細画像パターン形成能を与えるカバーコート装着法及びそのカバーコートされた感光性レジストを用いたパターン形成方法を提供する。【構成】 支持フィルム上に、常温で実質的に粘着性をもたず、酸素遮断性を有し且つ現像液に可溶性の非感光性被膜層を形成した転写フィルムの該非感光性被膜面を、常温で粘着性のある感光性被膜層を形成した基板上の該感光性被膜層上に密着させた後、支持フィルムを剥離し、非感光性被膜層を感光性被膜層に転写してカバーコートとすることを特徴とするカバーコート装着法、及びそのカバーコートされた感光性レジストを用いたパターン形成方法。

Claim (excerpt)：

支持フィルムと、その上に形成された、常温で実質的に粘着性をもたず、酸素遮断性を有し且つ現像液に可溶性の非感光性被膜層からなる転写フィルムの該非感光性被膜面を、常温で粘着性のある感光性被膜層を有する基板の該感光性被膜層上に密着させた後、支持フィルムを剥離し、非感光性被膜層を感光性被膜層に転写してカバーコートとすることを特徴とするカバーコート装着法。

IPC (4)：

G03F 7/11 501 ,  G03F 7/26 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 感光性転写シートの製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-156738   Applicant：コニカ株式会社
• 感光性樹脂版
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-203824   Applicant：東京応化工業株式会社
• 特開平1-287671
  
• 特開平1-287671