欠陥分類器の生成方法および欠陥自動分類方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：小川勝男 , 田中恭助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003047290
Publication number (International publication number)：2004047939
Application date： Feb. 25, 2003
Publication date： Feb. 12, 2004
Summary：

【課題】ユーザの欠陥分類要求を明確化し、前記分類要求をシステム内部の分類基準として組み込むことが可能な欠陥分類器の生成方法並びに欠陥自動分類方法を提供する。【解決手段】ユーザの分類要求を満足する欠陥分類器120を生成するために、まず欠陥分類器を複数の分岐要素によって階層的に欠陥分類クラスを分類する決定ツリーを用いて表現する。前記各分岐要素には個別の分類ルールが割り当てられる。前記決定ツリーの構成および分類ルール指定は、各分岐要素毎にユーザによって教示された欠陥サンプルの各種属性分布の状態(各欠陥分類クラスに属する欠陥サンプル間の各種属性毎の分離度も含む)の表示を基に決定される。またユーザの分類要求は、複数の欠陥検査装置101から取得された多様な検査情報をほぼ同時に表示するGUI110を用いてを用いて明確化される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

任意の欠陥検査装置において被検査対象に発生した欠陥を検査して取得される検査情報を基に前記欠陥を分類するための欠陥分類器の生成方法であって、任意の試料上の欠陥サンプル群を少なくとも任意の欠陥検査装置により検査してサンプル検査情報を取得する検査情報取得ステップと、画面上において該検査情報取得ステップにより取得されたサンプル検査情報を基に前記任意の試料上における欠陥サンプル群の欠陥属性分布の状態を表示する表示ステップと、画面上において該表示された欠陥属性分布の状態に基づき、欠陥サンプル群の分類クラス要素を分岐要素を介して階層的に展開する決定木における各分岐要素毎に個別の分類ルールを設定する分類ルール設定ステップとを含む決定木設定ステップとを有することを特徴とする欠陥分類器の生成方法。

IPC (4)：

H01L21/66 , G01N21/956 , G06T1/00 , H01L21/027

FI (4)：

H01L21/66 J , G01N21/956 A , G06T1/00 305A , H01L21/30 502V

F-Term (15)：

2G051AA51 , 2G051AB01 , 2G051AB07 , 2G051EC01 , 2G051EC02 , 2G051FA01 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA38 , 4M106DB30 , 5B057AA03 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057DA03 , 5B057DB02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

半導体ウェハと液晶ディスプレーの自動欠陥分類における増加的同時学習方法及び装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-501476 Applicant：トライパスイメージングインコーポレイテッド
欠陥の分類方法およびその装置並びに教示用データ作成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-225083 Applicant：株式会社日立製作所
半導体デバイスの製造方法、検査装置における検査条件出し方法、検査装置の選定方法並びに検査装置およびその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-061836 Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社

Show all

Return to Previous Page