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J-GLOBAL ID：200903063248423061
位置合わせ方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994252244
Publication number (International publication number)：1996115869
Application date： Oct. 18, 1994
Publication date： May. 07, 1996
Summary：
【要約】【目的】 EGA方式でアライメントを行う際に、非線形誤差成分の大きい跳びショットを正確に除去する。【構成】 N個のサンプルショットからm番目のサンプルショットを除去してEGA計算を行ってアライメント誤差の非線形成分の評価関数D(m,n)を求め(ステップ114〜117)、順次非線形成分が最悪となるサンプルショットを除去した残りのサンプルショットについてステップ114〜117を繰り返す。更に、mの値を1からNまで変えて同様の工程を繰り返し、評価関数D(m,n)のnの値が4〜(N-2)までの平均値T(m)が最小となるときのサンプルショットの組合せから跳びショットを選ぶ(ステップ124〜126)。
Claim (excerpt)：
基板上に設定された第1の座標系上の配列座標に基づいて前記基板上に配列された複数の被加工領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する第2の座標系内の所定の加工位置に対して位置合わせする方法において、前記複数の被加工領域のうち、予め選択されたN個(Nは6以上の整数)のサンプル領域の前記第2の座標系上での座標位置を計測する第1工程と;前記第1工程で計測された前記N個のサンプル領域の座標位置データから、m番目(mの初期値は1)のサンプル領域を除いた(N-1)個の座標位置データを統計処理し、それぞれの座標位置データの非線形誤差成分、及び該(N-1)個の非線形誤差成分のばらつきD(m,N-1)を求める第2工程と;該第2工程で求められた非線形誤差成分の最も大きなサンプル領域を除いて(N-2)個のサンプル領域を求める第3工程と;該第3工程で求められた(N-2)個のサンプル領域について、残されたサンプル領域の個数が所定の下限値Nmin に達するまで前記第2工程、及び第3工程を繰り返して、それぞれ非線形誤差成分のばらつきD(m,n)(nは(N-2)からNmin までの整数)を求めた後、該ばらつきD(m,n)の平均値T(m)を求める第4工程と;前記mの値を1ずつNまで増加させながらそれぞれ前記第2工程から第4工程までを繰り返して、非線形誤差成分のばらつきD(m,n)、及び該ばらつきD(m,n)の平均値T(m)を求める第5工程と;前記第4工程及び第5工程で求められたN個の平均値T(m)の中で、最も小さい平均値を与えるmの値をMとして、前記非線形誤差成分のばらつきD(M,n)が所定の上限値Dmax 以下となるときに残されているn個のサンプル領域を求める第6工程と;を有し、該第6工程で残されたn個のサンプル領域の前記第1工程で計測された座標位置データを統計処理して、前記基板上の前記複数の被加工領域の各々の前記第2の座標系上の座標位置を算出することを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 523
, H01L 21/30 525 W
