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J-GLOBAL ID：200903063264812990

フォトマスク、レチクルケース、レチクルストッカー、投影露光装置および半導体装置の製造方法

Inventor： 和田 康一
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993046906
Publication number (International publication number)：1994258820
Application date： Mar. 08, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】ペリクルを装着したフォトマスクを用いた半導体装置製造において、量産性の低下と、フォトマスクやペリクル面への異物の付着を招くことなく、ペリクル、ペリクル枠および、フォトマスクで囲まれる領域と外気との通気性を確保し、ペリクルの平坦性を維持する。【構成】フォトマスクへペリクルを装着するためのペリクル枠側面の少なくとも一部に開孔部を設け、これを熱により形状の変化する物質あるいは、表面張力により開孔部内に留まる液体により蓋をする。また前記フォトマスクを使用してレチクルケース、投影露光装置に利用する。

Claim (excerpt)：

半導体装置製造のフォトリソ工程で、透明薄膜からなるペリクルをペリクル枠を介して装着したフォトマスクにおいて、前記ペリクル枠に、外部と前記フォトマスクと前記ペリクル及び前記ペリクル枠により密閉されている領域との通気を行なう機能を有する開孔部を少なくとも1箇所有し、更に熱により形状の変化する材質で前記開孔部に蓋をする機能を有することを特徴とするフォトマスク。

IPC (3)：

G03F 1/14 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-202771
  
• 現像装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-263024   Applicant：キヤノン株式会社