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J-GLOBAL ID:200903063277884159

磁性層パターンの形成方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三反崎 泰司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001400754
Publication number (International publication number):2003203311
Application date: Dec. 28, 2001
Publication date: Jul. 18, 2003
Summary:
【要約】【課題】 形成精度および量産性に優れた磁性層パターンの形成方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 基礎磁性層上にバッファ層14を形成したのち、基礎磁性層をエッチングしてパターニングすることにより前駆磁性層を形成する。続いて、比較的大きな照射角度θ2(=約60.0°±10.0°)からイオンビームを照射しながら前駆磁性層に局所的に追加エッチングを施すことにより、磁極部分層13Aを形成する。バッファ層14の存在により、基礎磁性層のうちの上端部近傍部分よりも下端部近傍部分が優先的にエッチングされるため、記録トラック幅を規定することとなる上端幅がW2,下端幅がW3をなす先端部13A1が形成され、この先端部13A1の先端面が逆台形状をなすように磁極部分層13Aが高精度に形成される。
Claim (excerpt):
記録媒体に対向する記録媒体対向面およびその近傍において互いに対向する磁極部分を有すると共に前記記録媒体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連結された第1および第2の磁性層と、前記互いに対向する磁極部分の間に配設されたギャップ層と、前記第1および第2の磁性層の間にこれらの第1および第2の磁性層から絶縁された状態で配設された薄膜コイルとを備え、前記第2の磁性層が、前記記録媒体対向面からこの面より離れる方向に延在すると共に前記記録媒体の記録トラック幅を規定するトラック幅規定部分を含む薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記ギャップ層上に、前記第2の磁性層の前準備層としての基礎磁性層を形成する第1の工程と、この基礎磁性層上に、パターニング用のマスクを選択的に形成する第2の工程と、このマスクが形成された前記基礎磁性層に、少なくとも、前記基礎磁性層の延在面と直交する方向に対して所定の角度をなす方向からイオンビームを照射して、前記基礎磁性層を選択的にエッチングすることにより、前記第1の磁性層に近づくにしたがって幅が小さくなるように前記トラック幅規定部分を形成する第3の工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2):
G11B 5/31 ,  G03F 7/20 501
FI (2):
G11B 5/31 D ,  G03F 7/20 501
F-Term (8):
2H097KA01 ,  2H097LA20 ,  5D033AA05 ,  5D033BA08 ,  5D033BA12 ,  5D033DA02 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31

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