Pat
J-GLOBAL ID:200903063294930750
3次元形状測定装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
篠原 泰司
, 藤中 雅之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003101168
Publication number (International publication number):2004309240
Application date: Apr. 04, 2003
Publication date: Nov. 04, 2004
Summary:
【課題】測定標本の計測エリアに影を生じることがなく、測定標本の表面形状に影響されず、輝度が飽和しない状態で、高精度に計測を行うことが可能な3次元形状測定装置を提供する。【解決手段】光源1,11と、所定のパターンを有する光学変調素子3,13と、異なる方向から被検査物体S上にパターンを投影する複数の投影光学系4,14と、被検査物体S上に投影されたパターン像を撮像素子6に結像する結像光学系5と、複数の投影光学系4,14を経て得られる夫々のパターン画像の各画素での輝度値のコントラスト成分の大小を比較する比較部72と、比較部72で該パターン画像の所定画素での輝度値のコントラスト成分の大小を比較した結果、コントラスト成分が最も大きい投影光学系からの輝度値を基に高さ情報を演算する演算部73と、を有する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
光源と、所定のパターンを有する光学変調素子と、前記光源からの光が前記光学変調素子に照射されることによってできたパターン像を被検査物体に投影する投影光学系と、前記被検査物体上に投影されたパターン像を撮像素子に結像する結像光学系を有し、前記撮像素子により検出されたパターン像の変形量から被検査物体の高さ情報を求めるパターン投影法による3次元形状測定装置であって、
異なる方向から被検査物体上にパターンを投影して、該異なる方向から投影したパターン像を前記結像光学系を介して前記撮像素子に結像させることができるように、前記投影光学系を複数有するとともに、
該複数の投影光学系を経て得られる夫々のパターン画像の各画素での輝度値のコントラスト成分の大小を比較する比較部と、
前記比較部で該パターン画像の所定画素での輝度値のコントラスト成分の大小を比較した結果、コントラスト成分が最も大きい投影光学系からの輝度値を基に高さ情報を演算する演算部と、
を有することを特徴とする3次元形状測定装置。
IPC (2):
FI (2):
G01B11/24 K
, G01B11/24 E
F-Term (19):
2F065AA24
, 2F065AA53
, 2F065DD04
, 2F065FF06
, 2F065GG02
, 2F065HH07
, 2F065HH12
, 2F065HH14
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065LL21
, 2F065LL30
, 2F065LL41
, 2F065LL65
, 2F065MM16
, 2F065NN08
, 2F065NN17
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
-
突合せ位置検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-120955
Applicant:新日本製鐵株式会社
-
高さ測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-226269
Applicant:株式会社ニコン
Return to Previous Page