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J-GLOBAL ID：200903063304679325
光学的界面間寸法測定装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (2)：
川野 宏 (外1名)
, 川野 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995066389
Publication number (International publication number)：1996261728
Application date： Mar. 24, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：
【要約】【目的】 超短パルス光をビームスプリッタにより被検体へのプローブ光とポンプ光に分離し、プローブ光の被検体の各界面からの反射光とポンプ光の両パルスが同期したときのポンプ光の光路長を測定することにより、測定操作を簡易とし、被検体の厚みに拘わらず高精度な界面間寸法測定を可能とする。【構成】 超短パルス光2aがプローブ光2bとポンプ光2cに分離され、このプローブ光2bの被検体3の各レンズ界面からの反射光と、ポンプ光2cの光遅延量可変手段5からの反射光が合致パルス発生手段8に入射される。上記両反射光のパルスの合致パルス発生手段8への入射タイミングが合致したとき合致パルスが出力され、これに応じて検出電気信号12aが光学的寸法算出手段14に入力され、このときの光遅延量可変手段5の移動位置を移動位置検出手段13から読み取り、これに基づいて上記各レンズ界面の光学寸法を測定する。
Claim (excerpt)：
パルス光出力手段と、このパルス光出力手段からのパルス光を2系に分離し、一方を複数の界面を有する被検体へのプローブ光として、他方を参照光として出力するビームスプリッタと、該参照光を反射せしめる、該参照光の光路長を変化させるように移動可能な光遅延量可変手段と、前記プローブ光の前記被検体の各界面からの反射光と前記参照光の前記光遅延量可変手段からの反射光を入射され、これら両反射光のパルスの入射タイミングが合致したときに合致パルスを発生する合致パルス発生手段と、該合致パルス発生手段から、前記各界面の各々に応じた合致パルスが出力されたときにおける、該各合致パルスに対応する前記光遅延量可変手段の移動位置の間隔に基づき前記被検体の各界面間の光学的寸法を算出する光学的寸法算出手段を備えたことを特徴とする光学的界面間寸法測定装置。
IPC (2)：
FI (2)：
G01B 11/06 Z
, G01B 11/14 Z
