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J-GLOBAL ID：200903063331776715

放電処理装置

Inventor： 石 見 宗 憲 ,  藤 井 崇 ,  川 又 由 雄 ,  小野田 利 康
Applicant, Patent owner： 株式会社芝浦製作所
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993318154
Publication number (International publication number)：1995176519
Application date： Dec. 17, 1993
Publication date： Jul. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】 真空容器の排気路を遮断することなく真空容器内の圧力を一時的に高めた状態で気体放電を開始することができる。【構成】 気体導入管6の遮断弁9が開弁され、流量制御装置8から放電用気体が真空容器1に導入され、真空容器1の圧力が放電処理圧力まで昇圧される。真空容器1内の圧力が放電処理圧力に達したことを圧力計13が検出すると、遮断弁12が開弁され、これによって、気体貯蔵部11に貯蔵されていた高圧気体が真空容器1に瞬時に追加導入され、真空容器1内の圧力を放電処理圧力よりも所定値だけ高い圧力に昇圧する。遮断弁12の開弁とほぼ同時に、放電電源4から放電電極2に放電電力が投入されているので、真空容器1の昇圧によって気体放電が開始される。

Claim (excerpt)：

放電電極を備え、気体放電によって被処理物を処理する真空容器と、上記真空容器内の圧力が放電処理圧力に達するまで上記真空容器に放電用気体を導入する気体導入管とを具備する放電処理装置において、上記真空容器に連通された気体追加導入管と、上記気体追加導入管の途中に設置され、上記気体追加導入管から供給される上記放電処理圧力よりも高圧の気体を貯蔵する気体貯蔵部と、上記気体追加導入管に設けられ、上記気体追加導入管から上記気体貯蔵部への高圧気体の供給を遮断する第1の遮断弁と、上記気体貯蔵部からの高圧気体が上記真空容器に流入することを遮断する第2の遮断弁とを具備し、上記第2の遮断弁は、上記真空容器の圧力がほぼ上記放電処理圧力に達した時に開弁され、上記気体貯蔵部の高圧気体を上記真空容器に流入させ、上記第1の遮断弁はこの時、閉弁されていることを特徴とする放電処理装置。

IPC (6)：

H01L 21/3065 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H05H 1/46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭58-093873
  
• 特開昭62-106627