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J-GLOBAL ID：200903063372207067

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999280202
Publication number (International publication number)：2001100421
Application date： Sep. 30, 1999
Publication date： Apr. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】 遠紫外光、とくにKrF又はArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、現像欠陥の発生が少なく、エッジラフネスに優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び下記一般式(I)で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)中:R1は、繰り返し単位と連結する有機基を表し、R2〜R4は、各々独立に、水素原子、置換基を有して良いアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、環状アルキル基を表す。但し、R2〜R4は互いに結合して非芳香環、芳香環を形成しても良い。X:R-SO3、R:置換基を有してもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (13)：

2H025AA00 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB48 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17