Pat

J-GLOBAL ID：200903063432235367

投影露光方法および装置

Inventor： 寺澤 恒男 ,  福田 宏 ,  岡崎 信次 ,  今井 彰 ,  木村 紳一郎
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992267182
Publication number (International publication number)：1994120108
Application date： Oct. 06, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】本発明の目的は、微細パターンを有する比較的大面積の回路パターンを精度良くかつ高速に転写する方法およびその装置を提供することにある。【構成】複数の露光光学系、複数のレティクル(5、6)を導入し、ウェーハ(11)上でパターン合成を行なうことによリ、さらに複数の露光光学系の露光条件を適宜変えることにより達成される。【効果】レティクルの移動あるいは交換を伴わない複数のパターンの合成により、大面積の回路パターンの転写を精度良くかつ高速に行なうことができるという効果がある。

Claim (excerpt)：

光、真空紫外領域あるいはX線領域のビームを放射する光源を用いて、第1の基板上に描かれているパターンを結像光学系を介して第2の基板上に転写する投影露光方法であって、上記結像光学系を少なくとも2個有し、上記第2の基板の位置情報を与えるマークを検出するマーク検出工程と、該マーク検出工程で得られる結果に基づいて上記の結像光学系に対して上記第2の基板が停止すべき座標を演算する位置演算工程と、上記第2の基板を前記位置演算工程で求められた位置に逐次位置決めしていく工程と、上記少なくとも2個の結像光学系を介して異なる種類のパターンを同一の第2の基板上に転写する露光工程とからなることを特徴とする投影露光方法。