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J-GLOBAL ID：200903063543634341

真空発生装置

Inventor： 永井 茂和 ,  久々湊 哲夫
Applicant, Patent owner： エスエムシー株式会社
Agent (1)： 千葉 剛宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991002782
Publication number (International publication number)：1994185499
Application date： Aug. 27, 1984
Publication date： Jul. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】低真空から高真空までの広範囲の真空が得られ、加圧流体の消費量が少なく、しかも出力側の圧力変動に対しても迅速に応答可能な真空発生装置を提供すること。【構成】流量制御弁48によってエゼクタユニット22、24に対して加圧流体の供給量を制御する。流量制御弁48の弁体54の開度は出力側に設けられている圧力検出手段の負圧検出信号によって制御される。

Claim (excerpt)：

加圧流体供給源にエゼクタユニットを流体回路を介して接続し、前記エゼクタユニットに対する加圧流体の供給量を制御する流量制御弁を設け、さらに、前記流量制御弁を連続的に制御するための信号を発生させる圧力検出手段を設けたことを特徴とする真空発生装置。

IPC (2)：

F04F 5/48 ,  F04F 5/20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭55-001421
  
• 特公昭47-022393