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J-GLOBAL ID：200903063574112769

シリコーン化合物及び化粧料

Inventor：
作田 晃司

About 作田 晃司


Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

About 信越化学工業株式会社


Agent (1)： 滝田 清暉 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000164337
Publication number (International publication number)：2001342254
Application date： Jun. 01, 2000
Publication date： Dec. 11, 2001
Summary：
【要約】【課題】低融点且つ親水性であり、乳化適性に優れたステロール変性シリコーン化合物、及び、安定性並びに保温性に優れた化粧料を提供する。【解決手段】一般式R1aR2bSiO(4-a-b)/2で表されると共に、融点が40°C以下であることを特徴とするシリコーン化合物、及び、該化合物を配合した化粧料。但し、一般式中のR1は、脂肪族不飽和結合を有しない同種又は異種の、炭素数が1〜10で1価の、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又はフッ素置換アルキル基、R2は一般式-(CpH2p)O(CqH2qO)r-Xで表される有機基、Xはステロールの水酸基を除いた1価の残基であり、a、bはそれぞれ1.0≦a≦2.5、0.001≦b≦1.0、1.5≦a+b≦2.6を満足する正数、pは2〜6の整数、qは2〜4の整数、rは3〜200の整数である。
Claim (excerpt)：
一般式R1aR2bSiO(4-a-b)/2で表されると共に、融点が40°C以下であることを特徴とするシリコーン化合物;但し、一般式中のR1は、脂肪族不飽和結合を有しない同種又は異種の、炭素数が1〜10で1価の、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又はフッ素置換アルキル基、R2は一般式-(CpH2p)O(CqH2qO)r-Xで表される有機基、Xはステロールの水酸基を除いた1価の残基であり、a、bはそれぞれ1.0≦a≦2.5、0.001≦b≦1.0、1.5≦a+b≦2.6を満足する正数、pは2〜6の整数、qは2〜4の整数、rは3〜200の整数である。
IPC (17)：
C08G 77/38 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/025 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/32 ,  A61K 7/42 ,  A61K 7/48 ,  C08G 65/336 ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 71/00 ,  C08L 83/06 ,  C08L 91/00 ,  C08L101/00 ,  C08L101/14
FI (22)：
C08G 77/38 ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/00 M ,  A61K 7/00 N ,  A61K 7/00 Q ,  A61K 7/00 R ,  A61K 7/00 S ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/025 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/32 ,  A61K 7/42 ,  A61K 7/48 ,  C08G 65/336 ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 71/00 Z ,  C08L 83/06 ,  C08L 91/00 ,  C08L101/00 ,  C08L101/14
F-Term (142)：
4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AB012 ,  4C083AB032 ,  4C083AB051 ,  4C083AB082 ,  4C083AB172 ,  4C083AB212 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB332 ,  4C083AB362 ,  4C083AB432 ,  4C083AB442 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC061 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC342 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC472 ,  4C083AC482 ,  4C083AC582 ,  4C083AC622 ,  4C083AC642 ,  4C083AC682 ,  4C083AC692 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AD022 ,  4C083AD042 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083AD242 ,  4C083AD332 ,  4C083AD342 ,  4C083AD512 ,  4C083AD532 ,  4C083AD571 ,  4C083AD572 ,  4C083AD642 ,  4C083AD662 ,  4C083BB01 ,  4C083BB11 ,  4C083BB21 ,  4C083BB46 ,  4C083CC01 ,  4C083CC02 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC11 ,  4C083CC12 ,  4C083CC14 ,  4C083CC17 ,  4C083CC19 ,  4C083CC21 ,  4C083CC31 ,  4C083CC33 ,  4C083DD05 ,  4C083DD08 ,  4C083DD17 ,  4C083DD21 ,  4C083DD22 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083DD33 ,  4C083DD41 ,  4C083EE01 ,  4C083EE06 ,  4C083EE17 ,  4C083EE28 ,  4J002AB01X ,  4J002AB01Z ,  4J002AB04X ,  4J002AB05X ,  4J002AD00X ,  4J002AD01X ,  4J002AD02X ,  4J002AE00Y ,  4J002AE05Y ,  4J002BB03Z ,  4J002BB12Z ,  4J002BC03Z ,  4J002BD15Z ,  4J002BE02X ,  4J002BE04X ,  4J002BG01X ,  4J002BG06Z ,  4J002BG13X ,  4J002BJ00X ,  4J002CF00Z ,  4J002CH02X ,  4J002CH05W ,  4J002CK02Z ,  4J002CL00Z ,  4J002CM01X ,  4J002CP03U ,  4J002CP03Y ,  4J002CP03Z ,  4J002DE079 ,  4J002DE099 ,  4J002DE109 ,  4J002DE139 ,  4J002DE239 ,  4J002DG049 ,  4J002DG059 ,  4J002DJ049 ,  4J002DJ059 ,  4J002EC007 ,  4J002EC068 ,  4J002ED017 ,  4J002EF058 ,  4J002EH008 ,  4J002EH048 ,  4J002EH098 ,  4J002EW046 ,  4J002FD019 ,  4J002FD050 ,  4J002FD090 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002FD208 ,  4J002FD310 ,  4J002GB00 ,  4J005AA04 ,  4J005BC00 ,  4J005BD00 ,  4J005BD08 ,  4J035BA12 ,  4J035CA01N ,  4J035CA162 ,  4J035CA301 ,  4J035GA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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