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J-GLOBAL ID：200903063581628584

高分子ゲル組成物、その製造方法及びそれを用いた光学素子

Inventor： 明石 量磁郎 ,  小村 晃雅 ,  植松 高志
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 小田 富士雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998048822
Publication number (International publication number)：1999228850
Application date： Feb. 13, 1998
Publication date： Aug. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 高分子ゲルの凝集が起こらず、応答速度や繰り返し安定性が低下することのない高分子ゲル組成物を提供する。【解決手段】 刺激の付与により液体を吸収・放出して体積変化する高分子ゲルと液体を含む領域と、前記領域を覆う隔離部材とを有することを特徴とする高分子ゲル組成物。前記隔離部材は、マイクロカプセル膜またはマトリックスであることが好ましい。前記高分子ゲル組成物はそのままで、または基板上もしくは基板間に設けて光学素子として使用する。

Claim (excerpt)：

刺激の付与により液体を吸収・放出して体積変化する高分子ゲルと液体を含む領域と、前記領域を覆う隔離部材とを有することを特徴とする高分子ゲル組成物。

IPC (7)：

C08L101/14 ,  B01J 13/00 ,  B01J 13/14 ,  C08L 33/26 ,  G02B 1/04 ,  G02F 1/01 ,  G02F 1/19

FI (7)：

C08L101/14 ,  B01J 13/00 D ,  C08L 33/26 ,  G02B 1/04 ,  G02F 1/01 ,  G02F 1/19 ,  B01J 13/02 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭58-078758
  
• 高分子ゲルによるメカノケミカル素子及び該素子の制御 方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-231045   Applicant：株式会社まるよし
• 特開平4-115242