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J-GLOBAL ID：200903063601718054

フォトマスクの洗浄方法および洗浄装置

Inventor： 垣貫 剛広 ,  山田 智紀 ,  後藤 哲哉 ,  鈴木 哲男
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000270240
Publication number (International publication number)：2002082426
Application date： Sep. 06, 2000
Publication date： Mar. 22, 2002
Summary：

【要約】【課題】フォトマスク上にある異物を効果的に除去する洗浄方法および洗浄装置を提供する。【解決手段】発生する全紫外光のうち、90%以上が170〜180nmの波長である紫外線照射装置を用いて、フォトマスクに該紫外光を一定時間照射し、その後、該フォトマスクをアルカリ洗浄液を用いて洗浄することを特徴とするフォトマスクの洗浄方法。

Claim (excerpt)：

発生する全紫外光のうち、90%以上が170〜180nmの波長である紫外線照射装置を用いて、フォトマスクに該紫外光を一定時間照射し、その後、該フォトマスクをアルカリ洗浄液を用いて洗浄することを特徴とするフォトマスクの洗浄方法。

IPC (4)：

G03F 1/08 ,  B08B 3/08 ,  B08B 7/04 ,  G02F 1/1335 505

FI (4)：

G03F 1/08 X ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 7/04 Z ,  G02F 1/1335 505

F-Term (21)：

2H091FA02Y ,  2H091FC12 ,  2H091FC23 ,  2H091FC24 ,  2H091FC26 ,  2H091LA15 ,  2H095BB22 ,  3B116AA01 ,  3B116AB01 ,  3B116AB34 ,  3B116BB21 ,  3B116CC03 ,  3B116CC05 ,  3B201AA01 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201BB21 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC13 ,  3B201CC21