石英ガラスおよびその製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999063258
Publication number (International publication number)：2000256019
Application date： Mar. 10, 1999
Publication date： Sep. 19, 2000
Summary：

【要約】【課題】有機ケイ素化合物を原料ガスとして直接法で合成された石英ガラスでは、ArFエキシマレーザの波長である193.4nmにおいても内部吸収係数が0.001cm-1以上になってしまい、ArFエキシマレーザステッパの投影レンズ光学部材としての仕様を満たせなかった。【解決手段】有機ケイ素化合物からなる原料ガスを用いて直接法によって合成された石英ガラスにおいて、X線を照射したときに石英ガラス内部に生成するホルミルラジカルの濃度を2×1014個/cm3以下とすることにより、190nm以上の波長領域において内部吸収係数が0.001cm-1以下を達成した石英ガラスが得られる。

Claim (excerpt)：

有機ケイ素化合物からなる原料ガスを用いて直接法によって合成された石英ガラスであって、X線を照射したときに生成するホルミルラジカル濃度が、2×1014個/cm3以下であることを特徴とする石英ガラス。

IPC (4)：

C03B 8/04 , C03B 20/00 , C03C 3/06 , C03C 4/00

FI (6)：

C03B 8/04 A , C03B 8/04 G , C03B 8/04 R , C03B 20/00 F , C03C 3/06 , C03C 4/00

F-Term (67)：

4G014AH16 , 4G062AA04 , 4G062BB02 , 4G062DA08 , 4G062DB01 , 4G062DB02 , 4G062DC01 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DE02 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EA10 , 4G062EB01 , 4G062EB02 , 4G062EC01 , 4G062EC02 , 4G062ED01 , 4G062ED02 , 4G062EE01 , 4G062EE02 , 4G062EF01 , 4G062EG01 , 4G062FA01 , 4G062FA10 , 4G062FB01 , 4G062FB02 , 4G062FC01 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FF01 , 4G062FF02 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062GA01 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062HH01 , 4G062HH03 , 4G062HH04 , 4G062HH05 , 4G062HH07 , 4G062HH08 , 4G062HH09 , 4G062HH10 , 4G062HH12 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062HH18 , 4G062JJ01 , 4G062JJ03 , 4G062JJ06 , 4G062JJ07 , 4G062KK01 , 4G062KK03 , 4G062KK05 , 4G062KK07 , 4G062KK10 , 4G062MM02 , 4G062NN01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

合成石英ガラス光学部材の製造方法および光学部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-131519 Applicant：株式会社ニコン
合成石英ガラス光学部材の製造方法および光学部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-124529 Applicant：株式会社ニコン

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