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J-GLOBAL ID：200903063723471068

複合化光触媒粉体を用いた酸化・還元方法

Inventor： 山崎 典宗 ,  有沢 克二
Applicant, Patent owner： ぺんてる株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992102094
Publication number (International publication number)：1994182218
Application date： Mar. 27, 1992
Publication date： Jul. 05, 1994
Summary：

【要約】【構成】 ナイロン、ポリエチレンなどの核粉体表面に二酸化チタン、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、リン化ゲルマニウムなどの半導体粉体が均一にまた凝集の少い状態で固定化して形成された複合化光触媒粉体を、排水などの反応相中に分散させながら光を照射する酸化・還元反応方法。【効果】 反応後の液中からの触媒粉体の回収や除去を容易にし、更に、半導体物質を単独で用いた場合よりも高い触媒効果を得ることができる。

Claim (excerpt)：

反応相中に半導体物質を分散させ、この半導体物質に光を照射することにより半導体物質を光触媒として使用する酸化・還元方法において、前記半導体物質をこの半導体物質よりも粒子径の大きな核粉体の表面に固定化して複合化光触媒とし、反応相中に分散させ、光を照射することを特徴とした複合化光触媒粉体を用いた酸化・還元方法。

IPC (4)：

B01J 35/02 ,  B01J 19/12 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 光触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-285421   Applicant：富士チタン工業株式会社
• 特開平4-371233
  
• 特表平6-502340