画像処理条件設定方法および装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：千葉剛宏 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993322580
Publication number (International publication number)：1994291998
Application date： Dec. 21, 1993
Publication date： Oct. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】指定した仕上がり情報に精度よく対応した画像を得る。【構成】仕上がり情報の選択(S31)および特定箇所の指定(S32)を行い、前記特定箇所の網%データと前記仕上がり情報に対応した目標網%データとからグラデーションに係るセットアップパラメータの修正量を設定し(S35)、その修正されたセットアップパラメータに基づいて前記特定箇所の網%データを再演算し(S36)、その修正結果を評価して最適値となるように前記セットアップパラメータの修正を繰り返し行うことにより(S37)、最適なセットアップパラメータを得る。これを用いて画像処理を行うことにより、仕上がり情報に対応した最適な画像を得ることができる。

Claim (excerpt)：

画像データの修正すべき特定箇所を指定するとともに、前記特定箇所に対する仕上がり情報を指定する第1の過程と、前記特定箇所の画像データを所定の画像処理条件で処理して処理データを得る第2の過程と、前記処理データと前記仕上がり情報に係る目標処理データとを比較し、その比較結果に基づき当該画像処理条件を修正する第3の過程と、必要に応じ、前記修正された画像処理条件に基づき前記第2および前記第3の過程を繰り返す第4の過程と、からなることを特徴とする画像処理条件設定方法。

IPC (10)：

H04N 1/40 , G03F 1/00 , G06F 15/62 320 , G06F 15/62 , G06F 15/66 , G06F 15/68 310 , H04N 1/46 , G03F 3/08 , G03F 3/10 , G03G 15/00 303

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-144361
特開平4-266264
特開平1-314245

Show all

Return to Previous Page