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J-GLOBAL ID:200903063753107328

半導体発光素子及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 滝本 智之 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996096495
Publication number (International publication number):1997283845
Application date: Apr. 18, 1996
Publication date: Oct. 31, 1997
Summary:
【要約】【課題】 低しきい値電流密度で発振する半導体レーザを提供する。【解決手段】 n型GaAs基板11上に、n型ZnSeエピタキシャル層12、n型ZnMgSSeクラッド層13、n型ZnSSe光導波層14、ZnCdSe活性層15、p型ZnSSe光導波層16、p型ZnMgSSeクラッド層17、p型ZnTeコンタクト層18、多結晶ZnOとAlOとから成る埋込層19を形成する。さらにp型AuPd電極110とn型In電極111とを形成する。ここでは、多結晶ZnOとAl2O3の積層構造の埋込層19を電流狭窄層と光閉込め層に用いていることにより、熱放散が良いことから低しきい値電流密度と長寿命が実現できる。また効果的な光閉込めにより単一横モードレーザ発振が得られる。
Claim (excerpt):
II-VI族半導体エピタキシャル層と、該II-VI族半導体エピタキシャル層の上に設けられたZnO層と、 該ZnO層の上に設けられたZnO以外の絶縁物層と、を備える、半導体発光素子。
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (2)
  • 光集積デバイス
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-176785   Applicant:日本板硝子株式会社
  • 半導体発光装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-044451   Applicant:株式会社東芝

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