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J-GLOBAL ID:200903063762021258

シリカ表面への触媒金属の担持方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 安達 光雄 (外3名) ,  安達 光雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994230580
Publication number (International publication number):1996071431
Application date: Aug. 30, 1994
Publication date: Mar. 19, 1996
Summary:
【要約】【目的】 触媒金属を均一に分散させ、その粒子径を容易に調整できるシリカ表面への触媒金属の担持方法を提供する。【構成】 ケイ素のアルコキシドにオキシカルボン酸を加えて加水分解を行い、これに触媒金属塩溶液を加えて焼成する方法により、シリカ表面へ触媒金属を担持する。この担持方法によれば、容易にシリカ表面での触媒金属の粒子径を調整することができ、しかも触媒金属を均一に分散させることができることから、触媒性能の優れた触媒を得ることができる。またこの方法は、従来知られている金属の担持方法に比べ、その工程が簡易であり産業上有益な方法である。
Claim (excerpt):
ケイ素のアルコキシドにオキシカルボン酸を加えて加水分解を行い、加水分解物を乾燥した後触媒金属塩溶液を加え、これを300 〜500 °Cの範囲の温度で焼成することからなるシリカ表面への触媒金属の担持方法。
IPC (4):
B01J 37/03 ,  B01J 23/40 ,  B01J 23/42 ,  B01J 37/02 301
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開昭61-068314
  • 特開昭61-061644
  • 特開平4-270109

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