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J-GLOBAL ID：200903063777955524

偏光板用保護膜の製造方法及び偏光板

Inventor： 江藤 雅弘 ,  坂牧 聡 ,  重村 隆
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 田中 政浩 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993259993
Publication number (International publication number)：1995112446
Application date： Oct. 18, 1993
Publication date： May. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】複屈折が極めて小さい偏光板用保護膜を製造できるようにして、偏光板の偏光度を向上させるようにする。【構成】セルローストリアセテートを溶剤に溶解したドープをバンド又はドラム上に流延し、バンド又はドラム上から剥ぎ取った後乾燥工程をへて作製する偏向板用保護膜の製造方法において、セルローストリアセテートフィルム中の揮発分をX%、フィルム表面温度をY°Cとしたとき、XおよびYが下記の式で示される領域でフィルムを乾燥させることを特徴とする偏光板用保護膜の製造方法0<X<20のとき......Y>-6X+18020≦X≦60のとき......Y>-0.5X+70

Claim (excerpt)：

セルローストリアセテートを溶剤に溶解したドープをバンド又はドラム上に流延し、バンド又はドラム上から剥ぎ取った後乾燥工程をへて作製する偏向板用保護膜の製造方法において、セルローストリアセテートフィルム中の揮発分をX%、フィルム表面温度をY°Cとしたとき、XおよびYが下記の式で示される領域でフィルムを乾燥させることを特徴とする偏光板用保護膜の製造方法0<X<20のとき......Y>-6X+18020≦X≦60のとき......Y>-0.5X+70

IPC (4)：

B29C 41/26 ,  B29C 41/28 ,  G02B 5/30 ,  B29L 7:00