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J-GLOBAL ID：200903063792032238
半導体基板洗浄方法および装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高橋 光男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994164470
Publication number (International publication number)：1996008223
Application date： Jun. 22, 1994
Publication date： Jan. 12, 1996
Summary：
【要約】【目的】 半導体基板の洗浄液からメタル不純物を効果的に除去し洗浄液を循環させて使用可能とする半導体基板の洗浄方法および装置を提供する。【構成】 半導体基板3に対し洗浄液4を供給して該半導体基板を洗浄する半導体基板洗浄方法において、洗浄すべき半導体基板3と同じ材質のフィルターエレメントからなるフィルター8を介して前記洗浄液4を供給する。
Claim (excerpt)：
洗浄すべき半導体基板に対し洗浄液を供給して該半導体基板を洗浄する半導体基板洗浄方法において、洗浄すべき半導体基板と同じ材質のフィルターエレメントを介して前記洗浄液を供給することを特徴とする半導体基板洗浄方法。
IPC (2)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
