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J-GLOBAL ID：200903063804981346

シリコンウェーハ用洗浄液及び洗浄方法

Inventor： 森 清人 ,  石川 典夫 ,  村岡 久志
Applicant, Patent owner： 関東化学株式会社 ,  株式会社ピュアレックス
Agent (1)： 岩見谷 周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995092988
Publication number (International publication number)：1996264499
Application date： Mar. 27, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】特にCuに対する洗浄力を向上し、洗浄後、残存する表面酸濃度を低減し、洗浄工程を短縮して生産性を向上すると共に装置の小型化を達成できるシリコンウェーハ用の洗浄液及び洗浄方法を提供する。【構成】シリコンウェーハ用洗浄液は塩酸又はぎ酸と、過酸化水素と、ふっ酸とを含有する水溶液からなり、また洗浄方法は前記水溶液をシリコンウェーハ表面に60°C以下の温度で接触させる。

Claim (excerpt)：

塩酸又はぎ酸と、過酸化水素と、ふっ酸とを含有する水溶液からなるシリコンウェーハ用洗浄液。

IPC (7)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/26 ,  C23G 1/02 ,  B08B 3/08

FI (7)：

H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/304 341 M ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/26 ,  C23G 1/02 ,  B08B 3/08 A