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J-GLOBAL ID:200903063827091038

指紋照合システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長谷 照一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991270271
Publication number (International publication number):1993081412
Application date: Sep. 20, 1991
Publication date: Apr. 02, 1993
Summary:
【要約】【目的】指紋照合システムにおいて、登録指紋画像及び照合指紋画像の台形歪を補正した上で指紋照合を行う。【構成】マイクロコンピュータ70が、登録或いは照合のための指紋画像の台形歪を、標準図形撮影画像の台形歪から標準図形に基づき定めた歪度合を表す倍率により補正し、この補正指紋画像を登録指紋画像或いは照合指紋画像とした上で両者の照合をする。
Claim (excerpt):
光源と、この光源から光を入射される第1表面、指を押し当てられて前記第1表面からの入射光を反射する第2表面及びこの第2表面からの反射光を出射する第3表面を有するプリズムと、このプリズムの第3表面からの出射光を受光面にて受光し指の指紋を表す指紋画像として撮影する撮像手段とを有し、かつ前記プリズムの第2表面と前記撮像手段の受光面との間に前記指紋画像に台形歪を生ずる光学的配置関係を与えてなる指紋撮影装置と、前記指紋画像を登録指紋画像として登録する登録手段と、この登録手段による登録後において前記撮像手段により撮影される指の指紋画像を照合指紋画像として形成する形成手段と、前記照合指紋画像と前記登録指紋画像との照合を行う照合手段とを備えた指紋照合システムにおいて、前記台形歪に基づき定めた歪度合を表す倍率を記憶してなる記憶手段と、前記倍率に基づき前記指紋画像の台形歪を補正し前記登録指紋画像或いは前記照合指紋画像とする補正手段とを設けるようにしたことを特徴とする指紋照合システム。
IPC (2):
G06F 15/62 460 ,  G06F 15/64
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平2-176984
  • 特開平3-091877

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