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J-GLOBAL ID：200903063848370220
近接露光に適用される位置検出方法及びウエハと露光マスク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高橋 敬四郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995121659
Publication number (International publication number)：1996316126
Application date： May. 19, 1995
Publication date： Nov. 29, 1996
Summary：
【要約】【目的】スループットを落とすことなく高精度なアライメントを行うことができる位置検出方法を提供する。【構成】入射光を散乱させるエッジを有する位置合わせ用ウエハマークが形成された露光面を有するウエハと、入射光を散乱させるエッジを有する位置合わせ用のマスクマークが形成された露光マスクとを、露光面が露光マスクに対向するように間隙を挟んで配置する工程と、ウエハマーク及びマスクマークに照明光を斜入射し、ウエハマーク及びマスクマークのエッジからの散乱光を観測して、ウエハと露光マスクとの相対位置を検出する工程とを含み、ウエハマークのエッジ及びマスクマークのエッジが、照明光の入射面に対して垂直な方向に沿って複数個配置されており、相対位置を検出する工程が、照明光の入射面に対して垂直な方向に沿って複数個配置されたウエハマーク及びマスクマークのエッジを観測する工程を含む。
Claim (excerpt)：
入射光を散乱させるエッジを有する位置合わせ用ウエハマークが形成された露光面を有するウエハと、入射光を散乱させるエッジを有する位置合わせ用のマスクマークが形成された露光マスクとを、前記露光面が前記露光マスクに対向するように間隙を挟んで配置する工程と、前記ウエハマーク及びマスクマークに照明光を斜入射し、ウエハマーク及びマスクマークのエッジからの散乱光を観測して、前記ウエハと前記露光マスクとの相対位置を検出する工程とを含み、前記ウエハマークのエッジ及びマスクマークのエッジが、前記照明光の入射面に対して垂直な方向に沿って複数個配置されており、前記相対位置を検出する工程が、前記照明光の入射面に対して垂直な方向に沿って複数個配置されたウエハマーク及びマスクマークのエッジを観測する工程を含む位置検出方法。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L 21/30 510
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 511
