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J-GLOBAL ID：200903063852352695

基板にレジストを塗布する方法およびその装置

Inventor： 松尾 学 ,  津留崎 智夫
Applicant, Patent owner： キヤノン販売株式会社 ,  キヤノン株式会社
Agent (1)： 阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991197245
Publication number (International publication number)：1993021306
Application date： Jul. 11, 1991
Publication date： Jan. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基板にレジストを塗布する工程において、遠心力によって飛散して廃液となるレジストの量を減少させる。【構成】 ウェハ7を低速回転させつつ、ウェハ7の中心部から半径方向外方に向って移動する管状ノズル1を介してフォトレジスト液を連続的にウェハ7上に供給することによってウェハ7の上面を覆うフォトレジスト液の液膜を形成させる。しかる後にウェハ7を高速回転させることにより前記フォトレジスト液の液膜を所定の膜圧まで減少させる。

Claim (excerpt)：

基板を低速回転させつつ、前記基板の中心部から半径方向外方に向って移動する細管ノズルによって前記基板の表面にレジスト液を連続的に供給する工程と、前記レジスト液が供給された基板を高速回転させる工程とからなる基板にレジストを塗布する方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502

FI (2)：

H01L 21/30 301 D ,  H01L 21/30 301 C