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J-GLOBAL ID：200903063895748835

薄膜磁気ヘッドの製造方法

Inventor： 工藤 久 ,  佐々木 智
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 岡▲崎▼ 信太郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999263770
Publication number (International publication number)：2001084512
Application date： Sep. 17, 1999
Publication date： Mar. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】 薄膜磁気ヘッドを構成する上層コアの裾部分を精度良くエッチングすることができ、かつ、上層コアの頂部のオーバーエッチングや上層コアの側面への再デポジションを防止することができる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供すること。【解決手段】 下層コア21の基板20面にギャップ層22及び所定形状の上層コア24を順次成膜し、前記上層コアをマスクにして、前記ギャップ層及び下層コアの基板をイオンビームによりエッチングする際、前記下層コアの基板を、基板面の法線LとイオンビームBとのなす角度が所定角度となるように傾斜させると共に、前記基板面の法線を中心に所定角度で揺動させる。

Claim (excerpt)：

ギャップ層が下層コアと上層コアに挟持された構成の薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記下層コアの基板面に前記ギャップ層及び所定形状の前記上層コアを順次成膜し、前記上層コアをマスクにして、前記ギャップ層及び下層コアの基板をイオンビームによりエッチングする際、前記下層コアの基板を、基板面の法線とイオンビームとのなす角度が所定角度となるように傾斜させると共に、前記基板面の法線を中心に所定角度で揺動させることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

F-Term (4)：

5D033BA07 ,  5D033BA12 ,  5D033CA02 ,  5D033DA08